【光源科普】半導(dǎo)體制造工藝與光刻膠
【光源科普】半導(dǎo)體制造工藝與光刻膠
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光刻膠是一種用于制造半導(dǎo)體和印刷電路板的感光材料，通過(guò)用光照射在板上形成精細(xì)圖案。
紫外光在此過(guò)程中起著特別重要的作用，曝光過(guò)程中使用的光的波長(zhǎng)和強(qiáng)度對(duì)精度有很大影響。
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什么是光刻膠？
什么是光刻膠？光刻工藝中使用的感光化學(xué)劑這意味著。這種液體化學(xué)劑用于需要精細(xì)加工的領(lǐng)域，
例如半導(dǎo)體制造和印刷電路板圖案化。光致抗蝕劑具有響應(yīng)光而發(fā)生化學(xué)變化的特性。
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光刻膠主要有兩種類型：正型和負(fù)型。
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正性光刻膠：
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受到紫外線照射時(shí)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，光刻膠溶解（溶解）。然后用顯影劑處理去除曝光區(qū)域，留下未曝光區(qū)域。
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負(fù)性光刻膠：
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暴露在紫外線下會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，光刻膠變硬（不溶解）。然后用顯影液處理抗蝕劑，僅留下曝光區(qū)域并去除未曝光區(qū)域。
光刻膠是形成精細(xì)電路和圖案的必備材料，其質(zhì)量和性能直接影響產(chǎn)品的精度和可靠性。。
制造過(guò)程（光刻）涉及光刻膠涂覆、曝光和顯影步驟，準(zhǔn)確控制這些步驟非常重要。
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半導(dǎo)體制造工藝與光刻膠
在半導(dǎo)體制造中，光刻膠用于光刻工藝中以在基板上形成電路圖案。制造過(guò)程主要包括以下步驟。
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①清洗
涂敷光刻膠前，應(yīng)徹底清洗基材，保持表面清潔。
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②光刻膠的涂敷
將光刻膠均勻地涂敷在基材上并干燥。此階段光刻膠的厚度和均勻性對(duì)后續(xù)圖形形成的精度有很大的影響。
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③曝光 用紫外線照射光刻膠，在光刻膠上形成圖案。
發(fā)射光的波長(zhǎng)和強(qiáng)度直接影響圖案的分辨率。
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④顯影用顯影劑
對(duì)曝光后的光刻膠進(jìn)行處理，除去不需要的部分。這使得設(shè)計(jì)的圖案出現(xiàn)在板上。
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⑤蝕刻
顯影后，以光刻膠圖案為掩模，通過(guò)蝕刻去除基板上不需要的部分。
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⑥去除光刻膠
最后，蝕刻完成后，去除光刻膠，進(jìn)入下一步。
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